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旋轉(zhuǎn)擺動(dòng)重力式研磨拋光機(jī)

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旋轉(zhuǎn)擺動(dòng)重力式研磨拋光機(jī)/ 型號(hào):DP-ZYP230

該機(jī)為結(jié)構(gòu)，適宜實(shí)驗(yàn)室和晶體車間用于對(duì)各種晶體、陶瓷、玻璃和其它非金屬材料的平面粗磨、細(xì)磨和拋光。磨拋度好，效。

產(chǎn)品型號(hào)：DP-ZYP230

更新時(shí)間：2017-10-24

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：2557

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旋轉(zhuǎn)擺動(dòng)重力式研磨拋光機(jī)/ 型號(hào):DP-ZYP230

該機(jī)為結(jié)構(gòu)，適宜實(shí)驗(yàn)室和晶體車間用于對(duì)各種晶體、陶瓷、玻璃和其它非金屬材料的平面粗磨、細(xì)磨和拋光。磨拋度好，效。

主要特點(diǎn):
1、粘有被磨、拋材料的載料塊，由擺動(dòng)支撐架上的減速電機(jī)（無(wú)級(jí)調(diào)速）驅(qū)動(dòng)載料塊，使其不論何種原因，都能主動(dòng)地旋轉(zhuǎn)起來(lái)。避免了因載料塊不旋轉(zhuǎn)而導(dǎo)致被磨、拋材料磨、拋偏的問(wèn)題，即促使“TTV"——片子整體厚度變化越趨變小；

2、粘有被磨、拋材料的載料塊支撐架，由往復(fù)擺動(dòng)裝置可實(shí)現(xiàn)5度角的左右擺動(dòng)（其擺動(dòng)頻率無(wú)級(jí)可調(diào)），并可擺出（或不擺出）研磨盤的外徑。同樣也是解決被磨、拋材料整體厚度變化（TTV）問(wèn)題。假如沒(méi)有上述載料塊主動(dòng)旋轉(zhuǎn)裝置，會(huì)出現(xiàn)載料塊時(shí)轉(zhuǎn)時(shí)不轉(zhuǎn)的隨機(jī)狀況，即使載料塊左右擺動(dòng)也不能從根本上解決 “TTV"問(wèn)題；

3、研磨盤、拋光盤即主盤可實(shí)現(xiàn)由脈寬調(diào)制制做的恒率輸出電源控制的無(wú)級(jí)調(diào)速旋轉(zhuǎn)；
4、載料塊旋轉(zhuǎn)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)無(wú)級(jí)調(diào)速，并可分別立調(diào)控；

5、載料塊支撐架擺動(dòng)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)無(wú)級(jí)調(diào)速，并可分別立調(diào)控；

6、LED顯示研磨、拋光盤轉(zhuǎn)速；

7、裝有可設(shè)定、顯示的自動(dòng)定時(shí)器；

8、配有個(gè)修整塊，用來(lái)修正研磨盤的平整度；

9、磨拋盤下方水槽底板有定角度的傾斜至出水口，可使研磨時(shí)的沉淀磨料順利地流向出水口大大減輕了操作者清除剩余磨料的勞動(dòng)強(qiáng)度。

主要標(biāo):

研磨盤、拋光盤直徑：230毫米 / 3 05毫米

主盤轉(zhuǎn)速：0～250轉(zhuǎn)/分無(wú)級(jí)調(diào)速

zui大磨拋直徑：90毫米 / 115毫米

載料塊作位置：2個(gè)（可按客戶需求制做如桃形孔等形狀的載料塊）

定時(shí)范圍：99小時(shí)59分鐘

主電機(jī)率： 245瓦4個(gè)

減速電機(jī)率：40瓦（合計(jì)）

載料塊支撐輪轉(zhuǎn)速：0～300轉(zhuǎn)/分

載料塊支撐架擺動(dòng)頻率：0～30次/分

載料塊支撐架擺動(dòng)角度：5度

電源：交流220伏>重量：60公斤 / 80公斤

外型尺寸：580×400×410（毫米）

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